1. メインユニット

占有寸法 約295x295x383 (WxDxH)
突起部含む、配管・配線含まず、可動部分移動範囲含む
研磨盤 着脱式、粘着加工された研磨シートを貼付もしくはフィルム研磨材を水張り
使用可能研磨材
等		 耐水研磨紙、研磨フィルム（水、アルコール系研磨液併用可）、ダイヤモンド/アルミナ/酸化セリウム等を用いたバフ研磨、コロイダルシリカ等使用よる化学的機械研磨
重量 約10kg
ターンテーブル
回転数		 100～500rpm　(9段階、50rpm 刻み）
研磨適用サイズ 1/2インチ相当、t5幅40mmまでの板状端面等（目安）
電源 DC24V 65Wmax
給水 オプションの小型給水システムを装着することで自動供給が可能
排水口 内径φ12ホース用
条件設定項目 研磨時間(1～999秒)、ターンテーブル回転数(9段階)、スイング 速度(15段階)、スイング範囲(始点・終点各±9段階)
条件設定メモリ 上記条件設定項目を15セットメモリ可能
試料観察 倒立型光学顕微鏡装備、ボタン操作で試料を外す事無く顕微鏡 観察位置へ移動し研磨条痕等の観察が可能

2. スイングアームユニット

試料ホルダ
取付方法		 レバー式
基本研磨圧  可動機構部自重、試料ホルダ重量、試料自重の総和
荷重調整方法
(加重)		 研磨圧調整ウェイトを載せることにより調整
（ウェイトセット：25g×2個、50g,100g各1個付属）
荷重調整方法
(軽減)		 ウェイトキャンセラにより、ほぼ0荷重からの研磨が可能
研磨量調整機構 マイクロによるストッパ機構により試料ホルダの下降位置を制限
調整用マイクロ  最小分解能：2μm 目盛での調整範囲：6.5mm

3. 研磨盤

サイズ φ110
材質・処理 アルミ製　耐食ニッケルメッキ仕上

※本研磨盤に耐水、研磨フィルム、研磨布等を貼り付け、本体ターンテーブルにセットして使用する。

4. 顕微鏡ユニット

方式 倒立型光学顕微鏡
照明 同軸落射照明　白色LED（輝度調整:10段階）
レンズ 対物：x4、x10の2本、接眼：x10、X20の2本が付属
視野移動 X方向：送りネジ式ステージ、Y方向ラック式ステージによる
フォーカス 粗動：ラック式ステージ、微動：マイクロ式ステージによる

5. 電源ユニット

方式 スイッチング電源、ワールドワイド対応
入力 AC100～240V 50/60Hz 1.4Amax 3Pインレットソケット
出力 DC24V 2.7Amax
ケーブル 100V用2Pアースコード付ケーブル付属

6. 試料ホルダ

V型試料ホルダ  (ISPP-SH1) 
想定試料形状
・サイズ		 ・φ2～φ12程度の棒状、円筒状
・幅8mm程度、厚さ2mm程度までの板状　等
固定方法 直接クランプ、1/2インチ試料台(1個付属)で更に小さい試料に対応
または大径試料台(φ25、1個付属)で20mm角程度の薄い試料の厚み方向の研磨に対応（これらの場合はホットワックス等併用）
プレートホルダ  (ISPP-SH3) 
想定試料形状
・サイズ		 □20mm、厚さ5mm程度までの板状
固定方法 直接クランプ 付属の貼付台へワックス等で固定（厚さ～2mmの場合）
1軸傾斜ホルダ  (ISPP-SH4)
想定試料形状
・サイズ		 ～□40、～t=5程度までの板状 (BGAパッケージなど)
取り付け方法 直接クランプ、またはサブプレートにホットワックス等で固定後クランプ
調整機構 マイクロによる微調整機構、-3～+5°程度まで、1目盛：約0.01°
2軸傾斜アジャスタ  (ISPP-AA)
方式 2軸キネマティック機構による全周方向に角度調整が可能
（ホルダクランパと他の試料ホルダの間に装着して使用する）
調整方法(粗動) マイクロ本体を回転させ、ロックナットで固定(1回転：約0.625°)
調整方法(微動) 差動マイクロによる(1目盛：約0.003°)
調整範囲 約±5°(X,Y単独時)

7.外観寸法図

外観寸法図